Entwickeln

Der Entwickler entfernt den Photoresist von den Flächen, die im nächsten Prozessschritt abgeätzt werden sollen.


Dank einer optimierten Badführung und einer Entschäumvorrichtung kann auf zusätzliche Antischaum-Chemie verzichtet werden. Darüber hinaus gewährleistet die kontrollierte Nachdosierung der Entwicklerlösung eine zuverlässige Entfernung des Resists.

  • Entwicklerbad ohne zusätzliche Antischaum-Chemie dank einer optimierten Badführung
  • Kontrollierte Nachdosierung der Entwicklerlösung im Nachentwickler gewährleistet optimierten Entwicklungsprozess und zuverlässige Entfernung des Resists

Kontakt