Silizium

Polysilizium ist das Ausgangsmaterial für die Herstellung von Wafern für die Elektronik- und Photovoltaikindustrie. Das von SCHMID Silicon Technology (SST) entwickelte und auf Monosilan basierende Herstellungsverfahren für Polysilizium zeichnet sich durch höchste Reinheit bei niedrigen Kosten aus. Das Material eignet sich zur Herstellung von multikristallinen, monokristallinen (CZ) und Float-Zone (FZ) Wafern.


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Innovative Produktionsschritte führen vom metallurgischen Silizium zum Polysilizium. Beim SST Monosilan basierten Herstellungsverfahren für Polysilizium wird die Rückführung der Zwischenprodukte wie TCS und Wasserstoff in geschlossenen Kreisläufen erreicht. Der Prozess ist geradlinig strukturiert und besteht hauptsächlich aus drei Produktionseinheiten:

  • einer Niederdruck-Hydrochlorierung
  • einer Monosilan-Disproportionierung auf der Basis einer Reaktivdestillation
  • einer auf Monosilan basierenden Gasphasenabscheidung (CVD)

Alle Einheiten und damit der gesamte SST Prozess ist gekennzeichnet durch niedrigsten Energie- und Rohstoffverbrauch und resultiert daher in niedrigsten Betriebskosten.

>Weitere Informationen

Niederdruck-Hydrochlorierung

  • > 25 % STC Umsetzungsrate
  • automatisierter Feststoffaustrag und -behandlung, mit 95% Feststoffgehalt

Einstufige Disproportionierung

  • Reaktivdestillation erspart einen Reaktor und eine Kolonne
  • Signifikante Einsparungen beim Energieverbrauch
  • Kann mit DCS oder TCS oder jeder Kombination hiervon betrieben werden

Monosilan Gasphasenabscheidung

  • ˃300 MT/a/Reaktor
  • Stromverbrauch <30 kWh/kg

Gesamtprozess

  • Überlegene Produktqualität 9-11N+ bei niedrigstem Energieverbrauch