Kantenisolierung

Kantenisolierung

Einseitige Kantenisolierung für maximale Effizienz

Mit dem Inline-System Edge-Isolation und PSG-Ätzen wird vollautomatisch eine perfekte Kantenisolierung erreicht. Das von SCHMID speziell für die Kantenisolierung entwickelte Transportsystem sorgt für einen geringen Chemieverbrauch. In Kombination mit der patentierten Wassermaske wird der Emitter optimal isoliert.

Produktvorteile

Minimale Ausschleppung

Patentierte Wassermaske

Stabiler Prozess ohne Kühlaggregat

Kürzeste Wartungszeiten durch gute Zugänglichkeit und einfache Reinigung

Spezielle Reinigungsverfahren für PERC-Zellen verfügbar

Kann mit selektiver Emitter-Technologie kombiniert werden

Einzelheiten

Das Edge-Isolation- und PSG-Ätz-Inline-System vereint mehrere Prozessschritte in einem System mit modularem Aufbau. Zum einen wird die beim Diffusionsprozess entstehende Emitterschicht auf der Rückseite des Wafers einseitig von der Vorderseite des Wafers isoliert, um eine Fehlfunktion der Solarzelle zu verhindern. Andererseits wird das Phosphorsilikatglas (PSG) von der Waferoberfläche entfernt.

Während der Kantenisolierung wird der Emitter durch die von SCHMID entwickelte und patentierte Wassermaske geschützt. Speziell profilierte Transportrollen sorgen dafür, dass die Chemie ausschließlich mit der Rückseite in Kontakt kommt und somit wenig Chemie verbraucht wird.

Für das Ätzen des Phosphorsilikatglases werden anstelle der mit O-Ringen versehenen Wellen spezielle Niederhalterwellen verwendet. Diese hinterlassen keine Abdrücke auf den Wafern. Darüber hinaus ermöglicht das modifizierte Förderband eine einfache Reinigung der Wellen. Eine organische Verschmutzung der Wafer durch das Transportsystem ist somit ausgeschlossen.

Die Spülung zwischen den einzelnen Prozessschritten sorgt für minimale Ausschleppung. Die SCHMID-Mehrfachkaskadentechnik reduziert den Verbrauch von DI-Wasser. Dank des modularen Aufbaus des Inline-Systems können Durchsatz und Prozessschritte an die Bedürfnisse der Kunden angepasst werden. Darüber hinaus sind für gängige Zellkonzepte spezielle Reinigungsverfahren verfügbar.

Technische Daten

Durchsatz (M12):

  • 5.000 Wafer/h (5 Spuren)
  • 10.000 Wafer/h (10 Spuren)
  • Weitere Durchsätze konfigurierbar

Wafergröße:

  • M2 – M12

Bruchrate:

  • < 0,1 %

Prozessmedien:

  • HF
  • KOH
  • HNO3

Automatisierung:

  • Optionales Be- und Entladegerät

Sonstige Ausstattungen für Photovoltaik & Glas

AGTex

Oberflächenveredelung für Glas
Die AGTex bietet innovative Methoden zur Bearbeitung und Veredelung von Glasoberflächen. Die Technologie eignet sich besonders für die Herstellung von Antireflexions- und Blendschutzschichten auf Glas.

Alkalische Texturierung

Effiziente Texturierung von monokristallinen Wafern
Das Alkaline-Texturing-Inline-System von SCHMID sorgt für die effizienteste Texturierung von monokristallinen Wafern.

APCVD-System

Kostengünstige Inline-Abscheidung von Dünnschichten
Das APCVD-System der Serie 5500 eignet sich hervorragend für die kostengünstige Verarbeitung hoher Stückzahlen für alle Zellarchitekturen, die eine ein- oder mehrschichtige dielektrische Dünnschichtabscheidung erfordern.

Polysilizium- & BSG-Ätzen

Poly-Silizium- & BSG-Ätzen für TOPCon Manufacturing
Das alkalische Poly-Si- und BSG-Ätz-Inline-System erreicht eine perfekte Reinigung der Sonnenseite für n- und p-dotiertes Polysilizium und Boroan-Glas Entfernung.

Alkalisches Polieren für PRTC und TOPCon

NOx-freie Kantenisolierung und Polieren
Das Alkaline-Edge-Isolation-Inline-System erreicht eine perfekte Kantenisolierung mit einer alkalischen Lösung.

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