Kantenisolierung

Einzelheiten

Das Edge-Isolation- und PSG-Ätz-Inline-System vereint mehrere Prozessschritte in einem System mit modularem Aufbau. Zum einen wird die beim Diffusionsprozess entstehende Emitterschicht auf der Rückseite des Wafers einseitig von der Vorderseite des Wafers isoliert, um eine Fehlfunktion der Solarzelle zu verhindern. Andererseits wird das Phosphorsilikatglas (PSG) von der Waferoberfläche entfernt.

Während der Kantenisolierung wird der Emitter durch die von SCHMID entwickelte und patentierte Wassermaske geschützt. Speziell profilierte Transportrollen sorgen dafür, dass die Chemie ausschließlich mit der Rückseite in Kontakt kommt und somit wenig Chemie verbraucht wird.

Für das Ätzen des Phosphorsilikatglases werden anstelle der mit O-Ringen versehenen Wellen spezielle Niederhalterwellen verwendet. Diese hinterlassen keine Abdrücke auf den Wafern. Darüber hinaus ermöglicht das modifizierte Förderband eine einfache Reinigung der Wellen. Eine organische Verschmutzung der Wafer durch das Transportsystem ist somit ausgeschlossen.

Die Spülung zwischen den einzelnen Prozessschritten sorgt für minimale Ausschleppung. Die SCHMID-Mehrfachkaskadentechnik reduziert den Verbrauch von DI-Wasser. Dank des modularen Aufbaus des Inline-Systems können Durchsatz und Prozessschritte an die Bedürfnisse der Kunden angepasst werden. Darüber hinaus sind für gängige Zellkonzepte spezielle Reinigungsverfahren verfügbar.