Alkalische Texturierung

Alkalische Texturierung

Effiziente Texturierung von monokristallinen Wafern

Das Alkaline-Texturing-Inline-System von SCHMID gewährleistet die effizienteste Texturierung von monokristallinen Wafern. Der IPA-freie Prozess, die lange Badstandzeit und das für alle gängigen Wafergrößen geeignete, reibungslose Transportsystem garantieren eine stabile Produktion. Einheitliche Prozessbedingungen für alle Wafer sorgen für eine unvergleichlich homogene Pyramidenstruktur ohne den Einsatz von Kassetten.

Produktvorteile

Schonender und beschädigungsfreier Inline-Transport der Wafer

Bereit für dünne Wafer bis zu 100μm Dicke

Keine Nacharbeit an Wafern und Trägermarken

Homogene Pyramidenstruktur durch gleiche Prozessbedingungen für alle Wafer

IPA-freies Verfahren

Prozesssteuerung durch automatische Dosierung und Badüberwachung

Lange Badlebensdauer für bis zu 1 Million Wafer durch Feed and Bleed

Sehr gute Zugänglichkeit für Service- und Wartungsarbeiten

Einzelheiten

Die alkalische Texturierung wird bei monokristallinen Wafern angewendet. Sie beseitigt die durch den Sägeprozess verursachten Verunreinigungen und Beschädigungen. Die gleichmäßige, pyramidenförmige Oberfläche reduziert die Reflexion und beeinflusst damit entscheidend die Zelleffizienz.

SCHMIDs alkalisches Inline-Texturierungssystem erzielt perfekte Oberflächenqualitäten mit Reflexionswerten von weniger als 12 %. Durch den horizontalen Inline-Prozess ist weniger Ätzabtrag erforderlich und es gibt keine Nacharbeit aufgrund von Waferanhaftungen. Eine spezielle Berieselungsvorrichtung berieselt die Wafer sehr schonend und ermöglicht so die Bearbeitung von Wafern mit einer Dicke von bis zu 100μm. Der kontinuierliche Austausch des Ätzen Mediums führt zu kürzesten Prozesszeiten.

Zusammen mit der automatischen Dosierung und der Badüberwachung hat der Maschinenbediener zu jeder Zeit die volle Kontrolle über den gesamten Prozess. Am Ende sorgt das geräuscharme Trocknermodul Dry Jet mit seinem energieeffizienten Seitenkanalgebläse für gleichmäßig und makellos getrocknete Wafer.

Service- und Wartungsarbeiten können schnell und einfach durchgeführt werden. Alle Komponenten sind leicht zugänglich. Die Transportrollen können mit einem Handgriff entfernt werden. Das ausgeklügelte Transportsystem kommt ohne Oberwalze aus. So gibt es keine Laufspuren. Und dank des modularen Aufbaus des Inline-Systems können Durchsatz und Prozessschritte an die Bedürfnisse der Kunden angepasst werden.

Technische Daten

Durchsatz (M12):

  • 5.000 Wafer/h (5 Spuren)
  • 10.000 Wafer/h (10 Spuren)
  • Weitere Durchsätze konfigurierbar

Wafergröße:

  • M2 – M12

Bruchrate:

  • < 0,05 %

Prozessmedien:

  • KOH ooder NaOH
  • Additives

Optional:

  • Integrierte Vorreinigung

Sonstige Ausstattungen für Photovoltaik & Glas

AGTex

Oberflächenveredelung für Glas
Die AGTex bietet innovative Methoden zur Bearbeitung und Veredelung von Glasoberflächen. Die Technologie eignet sich besonders für die Herstellung von Antireflexions- und Blendschutzschichten auf Glas.

APCVD-System

Kostengünstige Inline-Abscheidung von Dünnschichten
Die APCVD-Anlage der Serie 5500 eignet sich hervorragend für die kostengünstige Verarbeitung hoher Stückzahlen für alle Zellarchitekturen, die eine ein- oder mehrschichtige dielektrische Dünnschichtabscheidung erfordern.

Kantenisolierung & PSG-Ätzen

Einseitige Kantenisolierung für maximale Effizienz
Das Edge-Isolation- und PSG-Ätz-Inline-System erreicht vollautomatisch eine perfekte Kantenisolierung. In Kombination mit der patentierten Wassermaske wird der Strahler optimal isoliert.

Polysilizium- & BSG-Ätzen

Poly-Silizium- & BSG-Ätzen für TOPCon Manufacturing
Das alkalische Poly-Si- und BSG-Ätz-Inline-System erzielt eine perfekte Reinigung der Sonnenseite für die Entfernung von n- und p-dotiertem Polysilizium und Borosilikatglas.

Alkalisches Polieren für PRTC und TOPCon

NOx-freie Kantenisolierung und Polieren
Das Alkaline-Edge-Isolation-Inline-System erreicht eine perfekte Kantenisolierung mit einer alkalischen Lösung.

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