Pressemitteilung

SCHMID erhält Innovation Award auf der productronica 2025 für InfinityLine L+

Freudenstadt, 18. November 2025 – Die SCHMID Group freut sich bekanntzugeben, dass die neu entwickelte InfinityLine L+ mit dem Innovation Award productronica 2025 in der Kategorie Cluster PCB & EMS ausgezeichnet wurde. Die Auszeichnung würdigt SCHMIDs wegweisenden Beitrag zur Fertigung der nächsten Generation durch eine neuartige Chemical Mechanical Planarization (CMP)-Lösung für großformatige Substrate.

Die InfinityLine L+ ermöglicht die CMP-Bearbeitung rechteckiger Substrate und Leiterplatten bis zu einer Größe von 24,5″ × 24,5″ und erzielt dabei eine herausragende Ebenheit und Gleichmäßigkeit. Das System eignet sich insbesondere für moderne Build-up-Technologien im Panel Level Packaging und SLP-Anwendungen, einschließlich SCHMIDs eigener „Àny layer ET-Board“-Technologie sowie SAP-, TGV- und Glassubstrat-Anwendungen. Es ist ein wesentlicher Enabler für Strukturen unter 5 µm in der Hochvolumenfertigung.

„Der Gewinn des Innovation Award auf der productronica 2025 unterstreicht die Rolle von SCHMID als Technologieführer in der fortschrittlichen Elektronikfertigung“, sagt Christian Schmid, CEO der SCHMID Group. „Die InfinityLine L+ zeigt, wie unser Engagement für Innovation, Zusammenarbeit und technologische Exzellenz die Zukunft nachhaltiger Hochleistungsproduktionstechnologien prägt.“

Neue Herausforderungen in der Substratfertigung

Die Bearbeitung großer, fragiler und nicht-duktiler Materialien stellt besondere Anforderungen. Konventionelle CMP-Systeme sind üblicherweise auf Wafer bis Ø300 mm ausgelegt und können die dünnen, oft flexiblen Eigenschaften großer Panels nicht berücksichtigen. Schwankungen in Schichtdicken, Materialkombinationen und Topografien erfordern präzise Prozesskontrolle und hohen Durchsatz – Anforderungen, die über klassische waferbasierte CMP-Konzepte hinausgehen.

Ein neuer Ansatz in der Planarisierung

Die InfinityLine L+ führt ein bahnbrechendes Designkonzept ein: Die Slurry wird zentral aufgebracht und über das Polierpad gleichmäßig verteilt. Empfindliche Substrate werden durch ein spezielles Spann- und Stützsystem sicher fixiert. Eine neu entwickelte Zonenkontrolle, präzise Endpunktbestimmung sowie ein automatisierter Panelwechsel sorgen für maximale Ebenheit, hohe Prozessstabilität und Produktivität bei minimalen Stillstandszeiten.

„Diese Auszeichnung bestätigt unsere technologische Vision, die CMP-Präzision aus der Halbleiterindustrie auf deutlich größere Substrate zu übertragen“, erklärt Steffen Beck, Director of Technology bei SCHMID. „Die InfinityLine L+ ist ein echter Durchbruch, der Strukturen unter 5 µm, hervorragende Gleichmäßigkeit und skalierbare Automatisierung für Advanced Packaging, SLP- sowie Glas-Substratanwendungen ermöglicht.“

Technologie und Vorteile

Basierend auf SCHMIDs „Oscar“-Prinzip kombiniert die InfinityLine L+ einen niedrigen Slurry-Verbrauch mit hohen Abtragsraten und exzellenter Gleichmäßigkeit. Funktionen wie Plattentemperierung, variabler Druckregelung und Vakuumspanntechnik mit In-situ-Drucküberwachung erhöhen zusätzlich die Prozesssicherheit.

Ihre modulare Architektur ermöglicht einen schnellen Wechsel von Verbrauchsmaterialien sowie die Echtzeitüberwachung aller Prozessparameter – für reproduzierbare Ergebnisse und maximale Anlagenverfügbarkeit.

Anwendungen und Zielmärkte

Die InfinityLine L+ überträgt Halbleiter-CMP-Technologie auf deutlich größere Substrate und adressiert die Anforderungen von:

• Herstellern von Substraten für KI und Zukunftstechnologien
• High-End-SLP- und Advanced-Packaging-Produzenten
• Herstellern von Glass-Cores und Glassubstraten
• Photonik- und Optoelektronikunternehmen
• Universitäten und Forschungseinrichtungen in Mikrosystemtechnik, Materialwissenschaft und Elektronik

Executive Statement„

Unsere neu entwickelte und heute offiziell ausgezeichnete InfinityLine L+ erlebt bereits eine starke frühe Nachfrage. Basierend auf den laufenden Bestellungen und Integrationsprojekten wird die InfinityLine L+ voraussichtlich bereits im kommenden Jahr einen bedeutenden Beitrag zu unserem Umsatz leisten – und damit unsere Technologieführerschaft weiter stärken und unser Wachstum beschleunigen“, sagt Roland Rettenmeier, CSO der SCHMID Group.

Ein herzliches Dankeschön an alle, die diesen Erfolg möglich gemacht haben!

Zukunftsgerichtete Aussagen

Diese Pressemitteilung enthält „zukunftsgerichtete Aussagen“. Alle Aussagen, die keine historischen Fakten darstellen, sind zukunftsgerichtete Aussagen. Zukunftsgerichtete Aussagen unterliegen zahlreichen Bedingungen, von denen viele außerhalb der Kontrolle des Unternehmens liegen, einschließlich der im Abschnitt „Risk Factors“ der bei der SEC eingereichten Registrierungsunterlagen und des finalen Prospekts genannten Risiken. Kopien sind auf der Website der SEC unter www.sec.gov erhältlich. Das Unternehmen übernimmt keine Verpflichtung, diese Aussagen nach dem Datum dieser Veröffentlichung zu aktualisieren, es sei denn, dies ist gesetzlich vorgeschrieben.

Über die SCHMID Group

Die SCHMID Group ist ein weltweit führender Anbieter von Lösungen für die Hightech-Industrie in den Bereichen Elektronik, Photovoltaik, Glas und Energiesysteme. SCHMID N.V. und die Gebr. SCHMID GmbH haben ihren Hauptsitz in Freudenstadt, Deutschland. Das 1864 gegründete Unternehmen beschäftigt heute über 800 Mitarbeiter weltweit und betreibt Technologiezentren sowie Produktionsstätten an mehreren Standorten, darunter Deutschland und China, sowie weltweite Vertriebs- und Serviceniederlassungen. Der Fokus des Unternehmens liegt auf der Entwicklung kundenspezifischer Anlagen und Prozesslösungen für verschiedene Branchen, darunter Elektronik, erneuerbare Energien und Energiespeicherung. Die System- und Prozesslösungen für die Herstellung von Substraten, Leiterplatten und weiteren elektronischen Komponenten gewährleisten modernste Technologie, hohe Ausbeute bei niedrigen Produktionskosten, maximale Effizienz, Qualität und Nachhaltigkeit durch umweltfreundliche Fertigungsprozesse.

Weitere Informationen finden Sie unter: www.schmid-group.com