SES InfinityLine

Alkalisches Ätzen mit Vakuum-Ätz-System (Option)

In einer typischen Außenschichtlinie wird der Fotoresist zur Strukturierung einer zusätzlich abgeschiedenen Metallresistschicht verwendet. Dieser Metallisierungsresist wird im Resiststripper mit einer alkalischen Lösung entfernt. In der Sektion Ätzen wird das nicht durch den Metallresist geschützte Kupfer mit einer ammoniakalischen Ätzlösung abgeätzt. Im letzten Schritt wird die Metallresistschicht (Sn oder SnPb) im Zinnstripper entfernt. Am Ende einer SES-Linie sorgt ein hocheffektives Trocknersystem mit Trockendüsen für eine perfekte Trocknung der Leiterplatten.

Produktvorteile

Innovative Filtertechnologie für Strippen des Beschichtungsresists

Reduzierte Chemie- und Wasserausschleppung hilft vor allem nach dem Abbeizen die Produktionskosten zu senken und hohe Kosten für die Wasseraufbereitung zu vermeiden

Magnetbetriebenes Fördersystem in Trockner und Auslaufsektion für partikelfreie Produktion

ESD-Transport zur Vermeidung elektrostatischer Schocks auf der Außenschicht mit feinen Strukturen und Platten mit eingebetteten Komponenten

Einzelheiten

Vakuum-Ätz-System für alkalische Ätz-Module

Dank des Vakuum-Ätz-Systems mit Saugleisten und dem leistungsstarken Sauggebläse konnte der bekannte „Pfützeneffekt“ auf der Oberseite der Leiterplatte während des Ätz-Prozesses extrem minimiert werden.

Außerdem erhöht sich durch den schnelleren Austausch des Ätzmittels auf der Plattenoberfläche die Standardverteilung und der Ätzfaktor steigt.